更新時間:2024-11-25
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廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
生產(chǎn)地址:陜西西安
品牌 | PULUODY/普洛帝 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合 |
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產(chǎn)品介紹 研磨液液體顆粒計數(shù)分布系統(tǒng) 商用集成電路的制造關(guān)鍵取決于通過化學(xué)機械平坦 化(CMP)將硅晶片表面拋光至接近原子平坦度的磨料漿 料顆粒的物理和化學(xué)性質(zhì)。磨料漿料(Slurry)中含有相對 較少>1.0μm 的顆粒(如二氧化硅、氧化鋁),這些顆 ??赡軙诰A表面平坦化處理的時候造成微劃傷。因此 ,磨料漿料(Slurry)顆粒的大顆粒計數(shù) (LPC) 是 CMP 工 藝中的關(guān)鍵因素。
檢測原理 待測液體流過流通池,流通池兩側(cè)裝有光學(xué)玻璃,激光 器的光束通過透鏡組準(zhǔn)直,光束穿過流通池,照射在光陷阱 上。若待測液體中沒有顆粒,則光電探測器接收不到光信號 ,若液體中有顆粒,顆粒通過流通池,與激光光束發(fā)生遮擋 或者散射現(xiàn)象。某一個(或幾個)角度下的遮擋和散射信號通 過透鏡收集匯聚到光電探測器上,產(chǎn)生正的電信號脈沖,脈 沖信號的幅度和光強成正比。根據(jù)信號的幅度和個數(shù)可以對 液體中的微小顆粒進行計數(shù)檢測。 光阻法主要檢測 2μm 以上的較大顆粒,光散射法主要 檢測 2μm 以下的顆粒。兩種模的巧妙融合檢測讓顆粒的探 測范圍更加寬廣且精度更高,讓顆粒無處遁形。 PLD-FX-801 液體顆粒計數(shù)器基于光散射法和光阻法雙模式的檢測原理,采用普洛帝核心技術(shù)第八代雙激光 窄光顆粒檢測傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制和在離線自動稀釋系統(tǒng),可以用于評估研磨液中的不良顆粒以及這些顆 粒的濃度。PLD-FX-801 液體顆粒計數(shù)器可以有效幫助我們確認(rèn)系統(tǒng)中的顆粒污染源,評估過濾的有效性以及減 少選些不良顆粒帶來的風(fēng)險。
典型應(yīng)用 應(yīng)用于 CMP POU 供應(yīng)前段-供給設(shè)備的 Final out 處檢測出 Slurry 內(nèi)的引起 scratch & defect 的 Large Particle,從而預(yù)防事故的發(fā)生; 應(yīng)用于檢測區(qū)分 Slurry good/bad test , good/bad slurry,在供給端分析而預(yù)防事故的發(fā)生; 應(yīng)用于電子半導(dǎo)體行業(yè)純水中顆粒監(jiān)測分析; 應(yīng)用于電子半導(dǎo)體行業(yè)電子化學(xué)品中顆粒監(jiān)測分析; 應(yīng)用于過濾行業(yè)的濾除效率以及膜完整性監(jiān)測; 應(yīng)用于凈水廠凈水、鋼廠回收水、自來水用水等。
性能特點 雙模式的檢測原理,讓顆粒無處遁形; 0.5-100μm 的標(biāo)準(zhǔn)顆粒尺寸,超寬廣的顆粒監(jiān)測范圍; 精確的流量控制,讓監(jiān)測數(shù)據(jù)更加恒定和穩(wěn)定; 在離線自動稀釋系統(tǒng),適合超高濃度粒子; 高流速保證了快速的清洗時間和系統(tǒng)潔凈度; 儀器一體化設(shè)計故障率,保證了低維護成本; 乳膠球校準(zhǔn),可追溯至 NIST 標(biāo)準(zhǔn); 實時觀察研磨漿料中顆粒的粒徑大小、數(shù)量和趨勢分析; 靈活設(shè)置限值報警,動態(tài)變化響應(yīng)快; 可選配靈活通訊方式,實現(xiàn)工廠現(xiàn)代化管理;
技術(shù)參數(shù)
傳感器:第八代雙激光窄光檢測器(更精確,更穩(wěn)定,更迅速)
∝測試原理: 光阻和光散射雙模式
∝測試樣品: 水和有機溶劑
∝檢測范圍: 0.5-100μm
∝通道數(shù)量:1000 通道可任意設(shè)定 16 個
∝檢測時間: 5s~自定義
∝粒徑精度: ≥90%
∝計數(shù)精度: ±3%
∝取樣精度: ±1%
∝取樣流速: 5mL/min~150mL/min
∝測定方式: 在線/離線、稀釋/直接
∝報警方式: 聲光報警器、漏液報警、顆粒限制報警
∝控制系統(tǒng): Windows 操作系統(tǒng)
∝通訊方式: 標(biāo)配 TCPIP;選配:RS232/RS485/4-20mA
訂購配置
標(biāo)準(zhǔn)配置:
檢測主機一套;
安裝調(diào)試耗材包一套;
出廠紙質(zhì)文件一套。
入口壓力調(diào)節(jié)模塊。
應(yīng)用案例
在線或離線測定時,可 Match 供給設(shè)備 filter 交換時或 charge 等供給設(shè)備 Event 變化帶來 的 LPC Data,可有效監(jiān)測 Slurry 的 Grade。
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